Photomask1 Photomask - Binary mask 제조 용이, 미세 패턴에서 이미지가 잘 형성되지 않는다. quartz 위에 Cr에 의해 패턴이 형성된다. Cr은 차광부 역할을 한다. 크롬이 충분히 넓지 않으면 차광부의 역할을 할 수 없다. 보강간섭이 생겨서 최저 광도가 0에 도달하지 못하여서, 해상력이 떨어진다. - EAPSM (Embedded Attenuated PSM) 위상 반전층(Phase shifting material로 투과율이 6% 혹은 8%)을 통과한 빛과 위상 반전층이 없는 부위를 통과한 빛은 서로 다른 광학경로를 가지게 됨에따라 두 빛 사이에 위상차가 발생하여, 웨이퍼 상에 미세 패턴을 형성시킨다. 하지만 제조공정이 복잡하고, 바이너리 마스크에 비해서 불량률이 높다. 패턴의 경계 부분에서서로 소멸간섭이 생겨서 .. 2020. 6. 4. 이전 1 다음